주식투자를 위한 반도체 8공정의 이해 2단계 포토 공정

포토 공정

 

산화막이 형성된 웨이퍼 위에 설계 회로를 찍어내는 공정.

 

필름 카메라로 사진을 찍어 현상하는 것과 비슷한 원리입니다.

 

www.skcareersjournal.com/908?category=696984

 

반도체? 이 정도는 알고 가야지: (3) 포토(Photo Lithography) 공정

www.samsungsemiconstory.com/1601

 

[반도체 8대 공정] 4탄, 웨이퍼에 회로를 그려 넣는 포토공정

 

포토공정은 크게 세 개의 과정으로 구분할 수 있습니다.

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1. 감광성 고분자 물질 (PR, Photo Resist) 도포

 

- PR을 웨이퍼에 고르게 바르는 공정.

 

웨이퍼를 인화지로 만들어 준다고 생각하시면 되는데

 

미세한 회로 패턴을 얻기 위해서는 PR막이 얇고 균일해야 하고

 

빛에 대한 감도가 높아야 합니다.

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2. 노광

 

-  PR막이 형성된 웨이퍼에 노광장비를 사용하여

 

회로 패턴이 담긴 마스크에 빛을 통과시켜  패턴을 구현하는 공정.

 

news.skhynix.co.kr/1873

 

[반도체 특강] 포토(Photo) 공정 下편 - 노광(Exposure)과 현상(Develope)

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3. 현상 (Develop)

 

- 노광 된(positive) 영역과 노광 되지 않은(Negative) 영역을

 

선택적으로 제거하는 공정.

 

사진을 현상하는 과정이라고 보시면 됩니다

 

웨이퍼에 현상액을 뿌려 

 

노광 된(positive) 영역, 노광 되지 않은(Negative)을

 

선택적으로 제거하여 회로 패턴을 형성합니다.